GB 51432-2020.Standard for design of thin film transistor display device glass substrates manufacture plant.
1总则
1.0.1 为在薄膜 晶体管显示器件玻璃基板工厂设计中贯彻执行;国家有关法规和方针政策,规范薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计,做到技术先进,经济合理，节约能源,保护环境,安全运行，制定本标准。
1.0.2 GB 51432适用于以溢流下拉法、浮法、槽口下拉法玻璃生产工艺为主的新建、改建和扩建的薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计。
1.0.3 薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计,除执行本标准外，尚应符合国家现行有关标准的规定。
2术语
2.0.1 薄膜晶体管 thin film transistor
指通过溅射、沉积、分子自组装、真空蒸镀、喷墨打印等成膜技术在玻璃等载体表面制作的晶体管,通常用作开关原件或驱动电路。
2.0.2 薄膜晶体管 显示器件 thin film transistor display device
使用薄膜晶体管控制像素开关或驱动，实现有源矩阵式显示方式的显示器件。
2.0.3 玻璃基板 glass substrate
表面平整的薄玻璃片,是构成薄膜晶体管显示器件的基本部件。
2.0.4 窑龄 furnace life
熔炉两次冷修之间的连续生产时间,通常以年或月表示。
2.0.5 世代 generations
用于定义玻璃基板产品的尺寸规格;世代越高,玻璃基板尺寸越大。
2.0.6 配料 工序 batch
将用于玻璃基板生产的粉料原材料进行接收、车间内输送、储存、定量称量.粉料原材料混合,再将混合后的配合料与碎玻璃配比后输送到熔炉的工艺过程。